기술소개

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특허권자 한국과학기술원 출원일자 2012.02.27
기술명칭 실버잉크를 이용한 투명전극 패터닝 기술
기술분야 NT 기술개발상태 TRL 4단계
지재권정보 (등록번호)10-1328666 특허명세서 1020120019717_실버잉크를 이용한 투명전극 패터닝 기술.pdf
기술거래유형 협의 후 결정 희망거래금액 협의 후 결정
응용분유 터치스크린 패널
관련자료 04_2012-0019717_이중 구조를 갖는 소프트 몰드 및 이것을 이용한 실버잉크 패턴의 전사방법.pdf
기술개요
본 기술은 실버잉크를 전사하여 나노스케일의 선폭을 갖는 실버잉크 패턴을 제조하기 위한 이중 구조를
갖는 소프트 몰드 및 이것을 이용한 실버잉크 패턴의 전사방법에 관한 것으로 나노스케일의 선폭을 갖는 실버잉크 패턴의 정확성(Fidelity)과 일치성(Alignment)을 향상시킬 수 있는 이중 구조를 갖는 소프트
몰드 및 이것을 이용한 실버잉크 패턴의 전사방법을 제공함.
기술특징
본 기술의 이중구조를 이용한 실버잉크 전사 방법은 포토리소그래피, 잉크젯 프린팅, 스텐실 프린팅, 그라비아 프린팅 등 종래기술의 문제점을 해결함.
2~5㎛ 이하의 선폭을 갖는 실버잉크 패턴을 정확하게 제조할 수 있고, 반복하여 프린팅하여도 정확도가 유지되어 패턴이 일치하므로 대량생산 공정에도 용이함.
선폭의 감소를 통하여 모바일폰 등의 베젤에서 테두리의 폭을 줄여 동일한 크기의 장치에 더 큰 터치스크린 패널의 제작이 가능함.
또한, 터치패널에 화학적 처리 없이 저온에서 전극 패턴을 형성 할 수 있기 때문에 터치패널의 화학
적 손상과 열처리에 의한 표면 전극 성능의 저하 문제를 해결함.
사업성
본 기술에 따른 이중 구조를 갖는 소프트 몰드 및 이것을 이용한 실버잉크 패턴의 전사방법은, 실버잉크를 전사하기 위한 돌기들의 선단에 실버잉크가 채워지는 홈이 형성되어 80㎛ 이하의 선폭을 갖는 실버잉크 패턴을 정확하게 제조할 수 있음.
또한, 나노스케일의 선폭을 갖는 실버잉크 패턴의 정확성과 일치성이 향상되므로, 터치패널에 화학적 처리 없이 저온에서 전극 패턴을 형성할 수 있음.
따라서 터치스크린 패널의 제작에 간단하게 채택할 수 있을 뿐만 아니라, 선폭의 감소를 통하여 모바일폰 등의 베젤에서 테두리의 폭을 줄여 동일한 크기의 장치에 더 큰 터치스크린 패널을 제작할 수 있는 효과가 있음.
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