| 특허권자 |
한국과학기술원 |
출원일자 |
2011.09.20 |
| 기술명칭 |
폴리도파민 고속 코팅 방법 |
| 기술분야 |
표면처리 |
기술개발상태 |
TRL 4단계 |
| 지재권정보 |
(등록번호)10-1340022 |
특허명세서 |
1020110094923_폴리도파민 고속 코팅 방법.pdf
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| 기술거래유형 |
협의 후 결정 |
희망거래금액 |
협의 후 결정 |
| 응용분유 |
리튬 이차 전지의 코팅 소재 |
| 관련자료 |
09. 2011-0094923_폴리도파민 고속 코팅방법.pdf
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| 기술개요 |
본 코팅방법은 도파민 및 산화제가 혼합된 혼합액을 코팅하고자 하는 기재 표면에 도포하는 단계를 포함하며, 본 기술은 표면 처리를 위한 홍합유래 폴리도파민을 고속으로 코팅할 수 있는 방법을 제공함.
pH와 도파민 농도, 그리고 산화제라는 변수를 조합하여, 종래기술에 비하여 월등히 빠른 속도로 기재 표면에 폴리도파민을 코팅함.
더 나아가, 도파민 용액과 산화제 용액을 분리한 후, 이를 기재 표면에 동시에 혼합, 스프레이 방식으로 도포하며, 이에 따라 1회 공정만으로도 기재 표면에 폴리도파민을 고속으로 코팅할 수 있음. |
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| 기술특징 |
본 기술은 표면 처리를 위한 홍합 유래 폴리도파민틍 고속으로 코팅할 수 있는 기술이며, 본 기술에
따른 효과로는 종래 기술에 비하여 월등히 빠른 속도록 기재 표면에 폴리도파민을 코팅할 수 있음.
또한, 1회 공정 만으로도 기재 표면에 폴리도파민층을 고속으로 코팅할 수 있음.
따라서, 본 기술을 이용하여 대면적의 기재 표면도 1회 공정만으로 전체를 코팅할 수 있음.
특히 본 기술은 물 접촉각 90도 이상을 가지는 소수성 표면에서 물에 섞이는 유기용매를 혼합하여 도포하거나, 코팅하고자 하는 기재 표면을 산소 플라즈마 처리 후에 도포함으로써 코팅 효율을 높일 수 있음. |
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| 사업성 |
본 기술은 표면 처리를 위한 홍합유래 폴리도파민을 고속으로 코팅할 수 있도록 제공함.
본 기술에 따르면, pH와 도파민 농도, 그리고 산화제라는 변수를 조합하여, 종래 기술에 비하여 월등히 빠른 속도로 기재 표면에 폴리도파민을 코팅함.
더 나아가, 본 기술은 도파민 용액과 산화제 용액을 분리한 후, 이를 기재 표면에 동시에 혼합, 스프레이 방식으로 도포하며, 이에 따라1회 공정만으로도 기재 표면에 폴리도파민층을 고속으로 코팅할 수 있음.
따라서, 본 기술을 이용하여 대면적의 기재 표면도 1회 공정만으로 전체를 코팅할 수 있음.
특히 본 기술은 물 접촉각 90도 이상을 가지는 소수성 표면에서 물에 섞이는 유기용매를 혼합하여 도포하거나, 코팅하고자 하는 기재 표면을 산소 플라즈마 처리 후에 도포함으로써 코팅 효율을 높일 수 있음. |
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| 관련사진 |
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