| 특허권자 |
한국기계연구원 |
출원일자 |
2010.03.29 |
| 기술명칭 |
대면적 나노 템플릿의 제조방법 및 이에 의해 제조된 대면적 나노 템플릿 |
| 기술분야 |
기계 |
기술개발상태 |
TRL 4단계 |
| 지재권정보 |
(등록특허)10-1157430 |
특허명세서 |
1020100028065B1.pdf
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| 기술거래유형 |
권리양도 |
희망거래금액 |
무상이전 |
| 응용분유 |
나노 임프린트 |
| 관련자료 |
대면적 나노 템플릿의 제조방법 및 이에 의해 제조된 대면적 나노 템플릿(SMK).pdf
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| 기술개요 |
본 기술은 대면적 나노 템플릿의 제조방법 및 이에 의해 제조된 대면적 나노 템플릿임
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| 기술특징 |
| 두께 차이가 있는 소면적 나노 템플릿들을 결합하여 대면적 나노 템플릿을 제조하는 과정에 있어서 소면적 나노 템플릿에서 나노 패턴이 형성된 면들이 서로 동일한 높이로 형성되게 함으로써, 대면적에 걸쳐 균일한 나노 패턴을 전사 |
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| 사업성 |
기존의 노광 기술은 공정이 복잡하고 비용이 많이들며, 정밀도에도 한계가 있음
나노 임프린트 공정기술은 2018년 이내, 약 3500억 달러 규모의 시장 형성이 예상되며, NT 응용메모리, 차세대 디스플레이 제작 등에 적용될 수 있으로 전망됨 |
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| 관련사진 |
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