기술소개

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특허권자 한국기계연구원 출원일자 2012.07.11
기술명칭 그래핀 패턴 형성방법 및 이를 이용하는 전계효과 트랜지스터 제작방법
기술분야 기계 기술개발상태 TRL 4단계
지재권정보 (등록특허)10-1228992 특허명세서 1020120075652.pdf
기술거래유형 권리양도 희망거래금액 무상이전
응용분유 반도체
관련자료 그래핀 패턴 형성방법 및 이를 이용하는 전계효과 트랜지스터 제작방법(SMK).pdf
기술개요
본 기술은 그래핀 패턴 형성방법 및 이를 이용하는 전계효과 트랜지스터 제작방법임
기술특징
나노 스케일의 그래핀 패턴을 용이하게 가고-공정시의 화학반응에 의하여 그래핀의 특성이 변형되고, 그에 따라 최종 제작되는 그래핀 나노리본의 반도체 특성이 저하되는 문제를 해결
사업성
그래핀은 두께가 얇고 정기적, 기계적, 화학적 특성이 매우 뛰어난 물질로 전도성 또한 우수하여 TV의 투명 유리창, 플랙시블디스플레이, 전자종이, 입는 컴퓨터 등 미래 반도체의 소재로 각광받고 있음
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