현재 디스플레이 분야 등에서 투명전극 소재로 사용되고 있는 ITO, IZO 등의 투명한 전도성 물질은 높
은 가격으로 인하여 대체기술 개발이 절실히 요구되고 있으며, 일반적인 금속소재인 Al, Ag, Cu 등도
물질자체는 불투명하지만 1미크론 이하의 선폭으로 인쇄하면 육안으로 식별이 어렵기 때문에 기존의 투명전극을 대체할 수 있음. 이에 따라 1미크론 이하의 미세선폭 인쇄기술이 요구되는 상황이나, 그라비아, 그라비아 옵셋 등의 기존 인쇄전자 기술들은 수십마이크로에 달하는 인쇄편차로 인하여 10미크론 이하의 미세패턴 인쇄가 불가능하고, 낮은 정밀도와 잔류물질로 인하여 인쇄패턴의 선폭이 불균일함.
본 기술은 1미크론 이하의 미세선폭으로 인쇄된 전극패턴을 투명전극으로 활용함으로써 기존 ITO, IZO
등 고가 투명전극을 대체하여 소재 비용을 1/2 이하 수준으로 절감할 수 있으며, 또한 기존의 투명전극물질은 전기전도율이 낮기 때문에 많은 양을 도포해야 하고 그만큼 소재비용이 상승되지만, 본 기술은 매우 적은 양으로도 충분한 전기전도율을 구현하여 소재비용을 추가적으로 절감할 수 있음. 본 기술은 인쇄 시 불량을 일으킬 수 있는 이물질들을 미리 차단하여 깨끗한 인쇄상태를 유지할 수 있으며 탁월한 재현성으로 매번 균일한 패턴을 인쇄하여 높은 품질을 확보할 수 있음. 한 기존의 포토리소그래피 방식으로는 유연기판 상에서의 패터닝이 불가능하였으나 본 기술은 필름형태의 플라스틱 기판에도 얼마든지 미세패턴 인쇄가 가능하여 유연 디스플레이 분야에서의 다양한 적용이 가능함. |
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