| 특허권자 |
한국기계연구원 |
출원일자 |
2007.11.28 |
| 기술명칭 |
발광소자 시편 시험장치 |
| 기술분야 |
기계 |
기술개발상태 |
TRL 4단계 |
| 지재권정보 |
(등록특허)10-0969292 |
특허명세서 |
1020070122296.pdf
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| 기술거래유형 |
권리양도 |
희망거래금액 |
무상이전 |
| 응용분유 |
AFM(Atomic Force Microscopes) 프로브- 나노스케일의 물성 측정 장비 - AFM을 이용한 측정 |
| 관련자료 |
발광소자 시편 시험장치(SMK).pdf
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| 기술개요 |
| 본 기술은 극소 크기 재료의 기계적 물성갑을 측정하기 위한 초소형 재료시험기 및 MEMS 기기분야에 이용되는 시편의 변형을 측정하는 기술임. |
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| 기술특징 |
미세전자 기계시스템에 사용되는 극소크기 재료에 대한 기계적 물성 측정 용이.
- 마이크로 / 나노 스케일의 인장시험에 사용.
- 시편의 길이방향 변형률 및 폭방향 변형을 측정. |
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| 사업성 |
| 본 기술에 따른 발광소자 시편 시험장치에 따르면, 본 발명은 클램핑된 시편에 연신과 피로하중과 굽힘과 같은 기계적 변형을 가해 재료의 기계적 특성을 파악하고, 또한 다양한 세기를 갖는 전류를 가하여 기계적 변형에 따른 발광소자의 단락여부와 전기적 저항을 측정하고, 또한 시편의 발광소자에서 조사되는 광을 수광하여 시편의 기계적 변형과 전류의 세기 및 전기적 저항 변화에 따른 광학적 특성을 복합적으로 측정할 수 있는 장점이 있음. |
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| 관련사진 |
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