기술소개

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특허권자 국가핵융합연구소 출원일자 2012.04.18
기술명칭 리튬전이금속산화물의 불순물을 제거하는 방법
기술분야 전자 기술개발상태 TRL 5단계
지재권정보 (등록번호)10-1354481 특허명세서 1020120040112_리튬전이금속산화물의 불순물을 제거하는 방법.pdf
기술거래유형 협의 후 결정 희망거래금액 협의 후 결정
응용분유 리튬이차전지, 전자제품, 전기자동차, ESS, 의료제품 등
관련자료 04. 2012-0008332_리튬 전이 금속 산화물의 불순물을 제거하는 방법.pdf
04. 2012-0008332_리튬 전이 금속 산화물의 불순물을 제거하는 방법.pdf
기술개요
반응성이 매우 높은 활성가스를 이용하여 리튬이차전지의 용량감소 없이 리튬이차전지 전극의 불순물을 제거하여 리튬이차전지의 수명 특성과 고온 방치 특성을 향상시킬 수 있는 불순물 제거 방법에 관한 기술임.
기술특징
대상기술은 리튬 전이금속 산화물에 잔류하는 불순물을 제거하여 리튬이차전지의 수명 특성과 고온 방치 특성을 향상시킬 수 있는 방법으로, 적용할 수 있는 응용분야의 제한점을 해소할 수 있어 사업화 가능성이 높은 기술임.
리튬 전이금속 산화물에 잔류하는 불순물을 제거하여 리튬이차전지의 수명 특성과 고온 방치 특성을 향상시킬 수 있는 기술임.
활성가스 공급부와 분말 처리부가 물리적으로 분리되어 있어 플라즈마의 하전 입자와 처리될 리튬 산화물 분말간의 직접적인 접촉이 없으므로 처리가스 생성부에서 원치 않는 처리 분말의 소산을 제거할 수 있음.
대기압 상태에서 플라즈마를 생성시키는 DBD(dielectric barrier discharge)형의 플라즈마 장치, 라디오 주파수를 이용하여 플라즈마를 생성시키는 CCP(capacitively coupled plasma)형의 플라즈마 장치, TCP(transformer coupled plasma)/ICP(inductively coupled plasma)형의 플라즈마 장치, 마이크로웨이브를 이용하여 플라즈마를 생성시키는 ECR(electron cyclotron resonance)형의 플라즈마장치, SWP(surface wave plasma)형의 플라즈마 장치 등 이용할 수 있음.
활성가스의 공급라인 및 분말 공급라인 등의 공급라인을 형성하기만 하면 쉽게 목적하는 장치의 설비를
할 수 있는 것으로, 장치의 구조 설계를 간소화할 수 있음
사업성
본 기술에 따르면, 리튬 전이금속 산화물에 잔류하는 불순물을 제거하여 리튬이차전지의 수명특성과 고온 방치 특성을 향상시키는 효과를 갖음.
활성가스 공급부와 분말 처리부가 물리적으로 분리되어 있어 플라즈마의 하전입자와 처리될 리튬 산화물 분말간의 직접적인 접촉이 없으므로 처리가스 생성부에서 원치 않는 처리 분말의 손상을 없앨 수 있음.
통상의 반응기에 활성가스의 공급라인 및 분말 공급라인 등의 공급 라인을 형성하기만 하면 쉽게 목적하는 장치의 설비를 할 수 있는 것으로, 장치의 구조 설계를 간소화하였음.
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