기술소개

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특허권자 한국기계연구원 출원일자 2010.09.30
기술명칭 변형률 측정 장치
기술분야 기계 기술개발상태 TRL 4단계
지재권정보 (등록특허)10-1033031 특허명세서 1020100095322.pdf
기술거래유형 권리양도 희망거래금액 무상이전
응용분유 미세 시편 인장, 피로 시험/ 물성 평가
관련자료 변형률 측정 장치(SMK).pdf
기술개요
본 기술은 나노미터 스케일 또는 마이크로미터 스베일을 지닌 미세 시험편의 변형률 측정 장치(비접촉식)임.
기술특징
단순한 광학 구성, 고속으로 변형률을 측정.
낮은 제조단가.
레이저 간섭 변형률 게이지(ISFG)보다 높은 률 측적 분해능.
사업성
본 기술은 단순한 광학 구성을 가지며, 단순한 수식 계산을 통해 고속으로 변형률을 측정할 수 있음. 낮은 가격으로 제조가 가능하므로 상용화에 유리함. 또한, 변형률 측정 장치는 레이저 간섭 변형률 게이지(ISDG)보다 높은 변형률 측정 분해능을 지님.
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