| 특허권자 |
한국기계연구원 |
출원일자 |
2005.05.17 |
| 기술명칭 |
진공 플라즈마를 이용한 나노입자 제조장치 |
| 기술분야 |
기계 |
기술개발상태 |
TRL 4단계 |
| 지재권정보 |
(등록특허)10-0689052 |
특허명세서 |
1020050041189.pdf
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| 기술거래유형 |
권리양도 |
희망거래금액 |
무상이전 |
| 응용분유 |
나노입자 제조 |
| 관련자료 |
진공플라즈마를 이용한 나노입자 제조장치(SMK).pdf
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| 기술개요 |
| 본 기술은 플라즈마반응장치로 공급되는 전구물질의 이동로인 유로를 수평방향으로 형성하고, 유로의 중심부분인 플라즈마발생부 부분을 다른 부분보다 협소하게 형성하여 전구물질의 유속증가와 유량을 집적시킴으로써 전극에 전구체가 증착되는 것을 방지함과 동시에 플라즈마반응부에서의 나노입자 생성효율을 더욱 촉진시킬 수 있는 진공 플라즈마를 이용한 나노입자 제조장치임. |
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| 기술특징 |
전구물질의 유속증가와 유량을 집적.
* 전극에 전구체가 증착되는 것을 방지함과 동시에 플라즈마반응을 촉진
* 다수의 공정 변수인자를 선택적으로 제어하여, 크기와 분포 형태 및 밀도 등에서 다양한 나노입자를 선택적으로 생성.
* 나노입자를 보다 용이하게 포집. |
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| 사업성 |
| 본 기술은 플라즈마반응장치로 공급되는 전구물질의 이동로인 유로를 수평방향으로 형성하고, 상기 유로의 중심부분인 플라즈마발생부 부분을 다른 부분보다 협소하게 형성하여 전구물질의 유속증가와 유량을 집적시킴으로써 전극에 전구체가 증착되는 것을 방지함과 동시에 플라즈마반응을 더욱 촉진시키는 것이 가능하게 된것임. 또한, 운송기체와 전구물질의 이송로에 유량조절부와 다수개의 밸브를 설치하여 플라즈마반응장치로 공급되는 유체의 흐름과 그 유량을 단속하고 플라즈마 반응부의 전극에 공급되는 전력을 가변가능 하도록 함으로써 다수의 공정 변수인자를 선택적으로 제어하여, 크기와 분포 형태 및 밀도 등에서 다양한 나노입자를 선택적으로 생성할 수 있는 효과를 갖음. |
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| 관련사진 |
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